国林科技:公司半导体臭氧产生设备多用于Fab工厂的晶圆制作环节

发布者:欢迎使用江南全站App  发布时间:2024-03-13 03:19:02

  每经AI快讯,有投入资金的人在出资者互动渠道发问:请问公司的半导体臭氧产生设备是用在芯片制作的什么环节啊?是晶圆厂、封装厂仍是光刻厂?

  国林科技(300786.SZ)8月3日在出资者互动渠道表明,公司半导体臭氧产生设备多用于Fab工厂的晶圆制作环节,首要供给清洗、氧化、薄膜堆积工艺制程的运用。

  免责声明:本文内容与数据仅供参考,不构成出资主张,运用前核实。据此操作,危险自担。

  如需转载请与《每日经济新闻》报社联络。未经《每日经济新闻》报社授权,禁止转载或镜像,违者必究。

  特别提示:假如个人会运用了您的图片,请作者与本站联络讨取稿费。如您不期望著作出现在本站,可联络咱们要求撤下您的著作。

  全国人大代表、四川省工商联副主席王麒:新一轮科技革新加速重塑汽车产业,应加速开展生产性服务业

  数智早参|ChatGPT日耗电超50万度;国内企业研制成功65000通道双向脑机接口芯片

  财经早参丨清明节放假3天调休上班;一旅客带着316个旧LV包入境被查;接52000元现金大单,花店成“洗钱爪牙”;李彦宏最新发声

关键词:有机废气处理 纳米银涂布 rto ro制膜设备 立式烘箱
COPYRIGHT © 2018 欢迎使用江南全站App 版权归本公司所有,
未经授权,任何其他公司或个人均不允许来复制、抄袭!
地址:江苏省无锡市滨湖区胡埭工业园金桂东路10号
电话:0510-66077111 传真:0510-88576678
邮箱:sales2019@wxati.com